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        6. 數(shù)字IC,靜態(tài)功耗,動(dòng)態(tài)功耗介紹
          • 發(fā)布時(shí)間:2022-12-03 16:11:51
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          數(shù)字IC,靜態(tài)功耗,動(dòng)態(tài)功耗介紹
          功耗源
          功耗的本質(zhì)是能量耗散。由能量守恒定律可知,能量只能從一種形式轉(zhuǎn)成另一種形式,能量的總量不變。芯片耗散的電能主要轉(zhuǎn)化成熱能。如果一顆芯片的功耗過大,容易導(dǎo)致工作時(shí)溫度過高,造成功能失效,甚至晶體管失效。因此,減小芯片功耗是很重要的一個(gè)任務(wù)。靜態(tài)功耗以及動(dòng)態(tài)功耗是兩個(gè)主要的功耗源。
          動(dòng)態(tài)功耗
          動(dòng)態(tài)功耗來源于:
          (1)當(dāng)門翻轉(zhuǎn)時(shí),負(fù)載電容充電和放電,稱為翻轉(zhuǎn)功耗
          (2)pmos和nmos管的串并聯(lián)結(jié)構(gòu)都導(dǎo)通時(shí)的有短路電流,稱為短路功耗。
          動(dòng)態(tài)功耗是一個(gè)電路在active狀態(tài)下的功耗,active是指電流的輸入或相關(guān)的連線電壓發(fā)生變化,但這一變化并不一定導(dǎo)致電路的輸出發(fā)生變化,因此,動(dòng)態(tài)功耗的有無與電路的輸出是否變化無關(guān)。動(dòng)態(tài)功耗也分為兩種,分別是internal power和switching power。
          internal power包括晶體管寄生電容的充放電功耗和電路狀態(tài)切換過程中PMOS和NMOS之間的短路電流功耗。對簡單的庫單元,internal power主要是短路功耗,對復(fù)雜的庫單元,internal power主要是電容充放電功耗。
          switching power即翻轉(zhuǎn)功耗,是電路的輸出負(fù)載電容充放電的功耗。
          在PTPX的功耗仿真中,internal power也是工具查找工藝庫中的功耗表格得到的。對switching power的計(jì)算,是基于電源電壓,網(wǎng)表中反標(biāo)的負(fù)載電容,及邏輯門的輸出翻轉(zhuǎn)情況。
          靜態(tài)功耗
          靜態(tài)功耗主要來源于:
          (1)流過截止晶體管的亞閾值泄漏電流(subthreshold leakage)
          (2)流過柵介質(zhì)的泄漏電流(gate leakage)
          (3)源漏擴(kuò)散區(qū)的p-n節(jié)泄漏電流(junction leakage)
          (4)在有比電路中的競爭電流
          靜態(tài)功耗 動(dòng)態(tài)功耗
          靜態(tài)功耗也稱為漏電功耗(leakage power),是指邏輯單元的輸入和輸出均不發(fā)生變化時(shí)(一般被稱為inactive或static狀態(tài))的功耗。靜態(tài)功耗又分為intrinsic leakage power和gate leakage power.
          intrinsic leakage power主要是由晶體管源極和漏極之間的亞閾值電流(晶體管在關(guān)斷時(shí)實(shí)際并沒有完全關(guān)閉,仍有電流),電流大小主要由晶體管閾值電壓和溫度決定(閾值電壓越小,漏電流越大,溫度越高,漏電流越大),因此,如果為了提高芯片工作頻率而使用LVT(低閾值晶體管),會(huì)造成芯片靜態(tài)功耗顯著增大。
          intrinsic leakage power另一個(gè)來源是晶體管擴(kuò)散區(qū)和襯底之間的電流,又稱為反偏PN節(jié)電流,它的大小主要取決于晶體管狀態(tài)和電源電壓。
          gate leakage power是源極到柵極或柵極到漏極之間的漏電流,隨著工藝節(jié)點(diǎn)的減小,這一電流對靜態(tài)功耗的貢獻(xiàn)已經(jīng)越來越顯著。這一電流主要取決于柵氧化層的厚度和電源電壓,而對溫度的敏感性較小。
          在PTPX的功耗仿真中,各單元的靜態(tài)功耗是工具查找工藝庫中的功耗表格得到的。
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